書籍 | レーザー
商品コード：
9784902312126
レーザ加工/光学デバイス加工技術資料集
販売価格(税込)：
13,200
円
ポイント：
132
Pt
A4変形 約290頁
2005/11/15
産業発展を支えるキーテクノロジー
オプトロニクス社
概要
刊行趣旨
フェムト秒レーザ、ファイバレーザ、次世代リソグラフィ技術、フォトン発生・加工技術、光学デバイス加工技術等について解説を加え、今後の産業・技術の進展に欠かせない注目技術を解説している。
読者対象
レーザ加工および光学デバイス加工分野における研究開発、製品開発、営業戦略に関わる方、レーザ/光学デバイス加工技術を活用する全ての方がた。
著者紹介
レーザ加工および光学デバイス加工に関わる75名の専門家による分担執筆
目次
第1部 各産業分野におけるレーザ加工
・レーザ加工の発展に向けて
・自動車産業におけるレーザ加工
・自動車電装部品におけるレーザ加工
・重工業分野におけるレーザ加工の適用
・重工業におけるレーザ溶接の適用
・レーザを使用した原子炉構造物の水中補修技術
・電子・電気業界におけるレーザ加工
・ジョブショップから見たレーザ加工適用の現状
第2部 加工用レーザ・材料・装置
・固体レーザと加工の新展開
・ファイバーレーザとその応用
・産業用固体レーザの現状
・微細加工用固体レーザ
・フェムト秒パルスレーザーとその精密制御
・位相共役鏡を用いたホログラフィック自己組織化レーザー
・エキシマレーザに関する特許
・深紫外透明材料と紫外オプトロニクスへの展開
・レーザ溶接ロボットと高精度溶接線倣い装置
第3部 フェムト秒レーザを中心とした加工技術
・フェムト秒パルスレーザー加工
・フェムト秒レーザー3次元ガラス加工
・干渉フェムト秒パルスレーザーによる透明物質のナノ加工
・Nanomachining using femtosecond laser
- fabrication of a 2-nm bandpass filter 1-D photonics crystal
・Direct diode laser application for hardening and cladding
第4部 リソグラフィ技術
・次世代リソグラフィの展望
・F2露光装置と高解像技術
・F2リソグラフィーとその他の高解像技術
・EUVリソグラフィー
・X線リソグラフィー
・フォトマスク技術
・EPL技術
・Low Energy Electron-beam Proximity Projection Lithography(LEEPL)
・マルチ電子ビーム露光装置
・近接場光リソグラフィー
・表層シリル化を用いた光リソグラフィーと近接場光リソグラフィーへの期待
第5部 フォトン発生・加工技術
-フォトン計測・加工技術プロジェクト-
・「フォトン計測・加工技術」プロジェクトの概要
・高出力完全固体化レーザー技術の開発-ロッド型レーザーの開発-
・高出力カスラブ型レーザーの研究開発
・ファイバーレーザーの研究開発
・高性能半導体レーザーの研究開発
・高集光・高効率LD励起ロッド型レーザー
・高出力全固体波長変換レーザ
・高品位レーザー加工システムの開発
・量子機能光電子素子作製技術の研究開発
・レーザが開く超微粒子応用開発の可能性
第6部 光学デバイスの超精密マイクロ加工技術
・総論
・超精密自由曲面加工機
・ガラス光学素子の精密成形技術
・非球面レンズ金型の超精密加工技術
・液中光照射によるレンズ成形
