書籍 | 光メモリ
商品コード：
9784900474840
情報ストレージガイドブック
販売価格(税込)：
16,500
円
ポイント：
165
Pt
中村慶久
B5判 約220頁
2000/7/7
マルチメディア時代のメモリを集大成
オプトロニクス社
概要
刊行趣旨
コンピュータ(情報処理技術)、光通信(情報伝送技術)とともに磁気ディスク・光ディスクなどの情報ストレージ技術は21世紀の3大ハードウェアである。本書はそれらの最新情報をまとめたものである。
読者対象
情報ストレージ技術に関わる研究者・技術者、学生・教育者、それらにつき学ぼうとしている一般の方。
著者紹介
情報ストレージに関する33名の専門家による分担執筆
目次
第1部 総論
第1章 情報ストレージ技術の動向
第2章 磁気ストレージ技術
1 ハード磁気ディスク装置
2 リムーバブル磁気ストレージ装置
第3章 光ストレージ装置
第2部 磁気記録の基本と各種装置
第1章 磁気記録の概要
第2章 磁気記録の基本
1 磁気記録の方法
2 磁気メディア
3 磁気ヘッド
4 ディジタル信号の記録と再生
5 リング形磁気ヘッドの磁界
6 記録磁化過程
第3章 ハード磁気ディスク装置(HDD)
1 はじめに
2 HDDの概要と特性
3 HDDの機械構造と
パッケージング技術
4 R/Wの技術とエレクトロニクス
5 インターフェース技術の進化
6 まとめ
第4章 フレキシブル磁気ディスク装置
1 フロッピー・ディスク装置(FDD)
2 大容量FDD -Zip装置-
2.1 概要
2.2 Zip装置の構造と技術
2.3 記録再生系
2.4 アクチュエータ・サーボ
2.5 250MB容量Zipの下位互換性
2.6 今後の展望
3 Super Disk
3.1 概要
3.2 Super Disk Drive の特徴
3.2.1 ユーザーサイドから見た場合の特徴
3.2.2 技術サイドから見た特徴
3.3 SuperDisk技術概要
3.3.1 SuperDisk
3.3.2 光サーボ技術
3.3.3 完全下位互換性
3.3.4 フォーマット
3.3.5 サーボトラックと磁気トラック
3.3.6 記録メディア
3.4 今後のSuper Diskの展開
第5章 磁気テープ装置
1 ヘリカル走査記録方式
1.1 3.8mm幅磁気テープ記録装置
1.2 8mm幅磁気テープ記録装置
1.3 12.7mm幅および
19mm幅磁気テープ記録装置
2 固定ヘッド記録方式
2.1 QIC/TRAVAN
磁気テープ記録装置
2.2 DLT磁気テープ記録装置
2.3 IBM3480系磁気テープ記録装置
2.4 100GB超磁気テープ記録装置
第3部 磁気記録部品と周辺技術
第1章 磁気記録メディア
1 磁気記録膜
1.1 長手記録メディア
1.2 垂直記録メディア
1.2.1 記録原理と記録メディア
1.2.2 記録メディアの種類と構造
1.2.3 メディアの作製法と微細構造
1.2.4 記録再生特性
1.2.5 最近の動向
1.3 フェライト薄膜メディア
1.3.1 バリウムフェライト薄膜
1.3.2 ストロンチウムフェライト薄膜
1.3.3 コバルトフェライト薄膜
1.3.4 Co-γ-Fe2O3薄膜
1.3.5 その他のフェライト薄膜
1.4 グラニュラ膜メディア
1.4.1 グラニュラ膜の微細構造
1.4.2 低ノイズ特性と熱安定性
1.4.3 40Gb/inch2メディアへの
適用と熱揺らぎの抑制
1.4.4 グラニュラ膜メディアの低ノイズ特性
1.4.5 まとめ
2 磁気ディスク基板
2.1 ガラス基板
2.1.1 非晶質ガラス
2.1.2 結晶化ガラス
(1) 結晶ガラスとは
(2) フル・サーフェイス・テクスチャ基板材
(3) スムーズ・サーフェイス基板材
(4) レ-ザ・テクスチャ対応基板材
(5) 高剛性基板材
(6) スーパー・スムーズ基板材
(7) まとめ
2.2 アルミニウム基板
2.2.1 生産の現状
(1) 世界の製造拠点分布
(2) 生産量と歩留まりの推移
(3) 製造工程
(4) 製造原価構成
2.2.2 今後の課題
(1) 20Gbits/inch2 時代の基板
(2) 基板への要求条件
(3) アルミニウム基板の改善課題
2.3 その他の基板
2.3.1 プラスチック基板
(1) 特徴
(2) 製造法
(3) プラスチック基板の基本特性
(a) 表面粗さ
(b) ランナウト
(c) グライドハイト
(4) プリフォーマットされた
プラスチック基板
(PERMディスク)
(5) 今後の展望
2.3.2 シリコン基板
(1) 特徴
(2) 製造法
(3) 基本特性
(4) 今後の展望
第2章 磁気ヘッド
1 読み出しヘッド
1.1 はじめに
1.2 AMRヘッド
1.2.1 磁気抵抗効果
1.2.2 GMRヘッドの必要性
1.2.3 AMR/GMRヘッドの構造
1.3 GMRヘッド
1.3.1 巨大磁気抵抗効果
1.3.2 スピンバルブGMRヘッド
1.3.3 スピンバルブGMRヘッドの効率アップ
1.3.4 スピントンネルGMRヘッド
1.3.5 反強磁性膜
2 書き込みヘッド
2.1 書き込みヘッドの
高密度記録対応
2.2 チップオンサスペンション
3 2段アクチュエータ
4 おわりに
第3章 ヘッド・ディスク・インターフェイス
1 テクスチャリング
2 潤滑
3 保護膜
第4部 半導体メモリ
1 はじめに
2 半導体メモリの分類
3 半導体メモリの現状
4 半導体メモリの将来への展望
第5部 光記録と周辺技術
第1章 概要
1 光記録装置
2 再生専用型
3 記録再生型
4 今後の動向
4.1 VCR(Video Cassette Recorder)を代替えするDVD-RAM
4.2 ハイブリッド光記録装置
4.3 100Gbit/inch2を目指す光ディスク
4.4 1Terabit/inch2を目標とする光メモリ
4.5 超小形光ディスク
第2章 光記録メディア
1 光記録メディアの概要
1.1 構造と書き込み読み出し法
1.2 記録膜
1.2.1 無機ライトワンス材料
1.2.2 有機色素ライトワンス材料
1.2.3 相変化材料
1.2.4 光磁気材料
1.3 基板
1.4 記録トラック
1.4.1 連続溝サーボ(CCS:Continuous Composite Servo)方式
1.4.2 サンプルサーボ(SS:Sample Servo)方式
1.5 フォーマット
1.5.1 CLV(Constant Linear Velocity)
1.5.2 CAV(Constant Angular Velocity)
1.5.3 ZCAV(Zoned Constant Angular Velocity)
2 各種光記録メディア
2.1 CD関連光ディスク
2.1.1 CD-ROM
2.1.2 CD-R
2.1.3 PD
2.1.4 CD-RW
2.2 磁気ディスク
2.2.1 130mm光磁気(MO)ディスク
2.2.2 90mm光磁気ディスク
2.2.3 Mini Disc
2.3 DVD関連光ディスク
2.3.1 DVD-ROM
2.3.2 DVD-RAM
2.3.3 +RW
2.3.4 DVD-RW
2.3.5 DVD-R
3 将来技術
3.1 短波長化
3.2 高NA化(膜面入射型)
3.3 超解像
3.4 磁区拡大再生と磁壁移動再生
3.4.1 磁気増幅再生(Magnetic Amplifying MO System:MAMMOS)
3.4.2 磁壁移動再生(Domain Wall Displacement Detection:DWDD)
3.5 磁気ヘッド再生
第3章 光ヘッド
1 光ヘッドの基本構成
1.1 光学系の構成
1.2 高密度化と光ヘッド
1.3 光ヘッドの技術動向
2 光読み出しの原理
2.1 コヒーレント光の性質
2.2 点光源の像
2.3 再生光学系の伝達特性
2.3.1 光スポットの形成過程
2.3.2 情報面による光スポットの変調
2.3.3 検出光の受光
3 光ヘッド用光源
3.1 光ヘッド用半導体レーザに求められるもの
3.1.1 基本特性
3.1.2 記録密度と発振波長
3.2 赤外半導体レーザ
3.3 赤色半導体レーザ
3.4 青色レーザ
4 光ヘッドのサーボ
4.1 フォーカスサーボ
4.1.1 非点収差法
4.1.2 ナイフエッジ法
4.2 トラッキングサーボ
4.2.1 3ビーム法
4.2.2 プッシュプル法
4.3 アクチュエータ
5 光学部品とその構成
5.1 CD-ROMとDVD-ROMの互換
5.1.1 2レンズ方式
5.1.2 倍率可変方式
5.1.3 特殊対物レンズ方式
5.1.4 輪帯マスクレンズ方式
5.1.5 段差レンズ方式
5.1.6 ホログラム補正レンズ方式
5.1.7 2焦点方式
5.2 CD-RとDVD-ROMの互換
5.2.1 波長選択フィルター方式
5.2.2 輪帯位相シフト方式
5.3 光磁気用光学部品
5.3.1 回折屈折色補正レンズ
6 光学部品の加工技術
6.1 光学用樹脂材料と射出成形
6.2 モールド用光学ガラスと
ガラス・モールド技術
第4章 ドライブ・システム
1 機械機構系
1.1 ドライブ構成
1.2 チルト特性
1.3 チルト調整機構
1.4 基準ディスク
2 信号処理
2.1 光記録装置の信号処理ブロック
2.2 波形等化
2.3 ビット同期、フレーム同期
2.4 2値化とビタビ復号およびPRML
2.5 変調と復調
2.6 エラー検出と訂正
3 サーボ・システム
3.1 概論
3.2 必要ゲイン
3.2.1 ディスク変位に対する必要ゲイン
3.2.2 系全体に加わる外乱加速度に対する必要ゲイン
3.2.3 系の安定生の確保
第5章 プロセス技術
1 マスタリング
1.1 ガラス工程
1.2 フォトレジスト塗布工程
1.3 カッティング
1.4 現像プロセス
1.5 導体化処理
1.6 電鋳工程
2 転写技術
2.1 2P法
2.2 射出成形技術
2.3 貼り合わせ技術
2.4 多層化技術
3 測定技術
3.1 測定の必要性
3.2 測定装置の構成
3.2.1 記録制御部
3.2.2 ジッター計測
3.2.3 信号特性測定
3.2.4 エラー計測
3.3 光ディスクの信頼性測定
3.3.1 寿命測定法の研究
3.3.2 ダストに対する信頼性試験
3.3.3 カートリッジ・ケースの信頼性
第6章 特徴と動向
1 光ディスク・システムの特徴
1.1 非接触記録再生
1.2 光ディスクの知財権保護技術
2 近接場光メモリ
2.1 近接場光学の原理
2.2 SNOM光学記録
2.3 SILによる記録
2.4 応用システム
